3-8.護國神山
台積電晶圓代工技術，到了7nm階段，浸潤式微影已經走到盡頭了。這時候，經過長期發展而成的EUV光刻機，也進入到商業化的時間點。
EUV光刻機使用二氧化碳雷射，激發微小錫滴形成高溫電漿，來產生13.5nm波長的極紫外光，並用鍍膜反射鏡的成像，來減少光線的吸收和色差。它可以勝任3nm和2nm，甚至更短線寬晶片的曝製。
台積電在光刻機研發階段，即和ASML公司保持密切合作關係，再夾其雄厚之研發能力，逐步建立起不可動搖的「護國神山」地位。
進入AI時代，3nm晶片需求強勁，呈現爆發式增長，帶動國內相關供應商更進一步快速發展，也讓台灣電子資訊產品的外銷總額，屢創新高。
晶片再結合先進封裝，讓全世界各地菁英近悅遠來，絡繹不絕於途。甚至台積電還遠赴日本、美國、德國興建海外工廠，讓各個領域的台灣之光廣受各方矚目。